NANOFABRICATION

NANOFABRICATION
Responsable: Eloise DEVAUX 
E-mail: devaux@unistra.fr
Tel:+33 (0)368 855 120

FIB :

Le système est un « cross-beam » Auriga de chez Zeiss .
Il possède à la fois un FIB (faisceau d’ions focalisé, source
d’ions Ga, tension 30kV) et un SEM (microscope électronique, source FEG, tension max 30kV). Il est équipé de GIS pour le dépôt assisté par faisceau d’ions (dépôts Pt,Au,W,SiOx) et pour la gravure assistée (XeF2, eau), d’un détecteur EDX et d’un détecteur d’électrons rétrodiffusés pour l’analyse, d’un système de compensation de charge pour les matériaux non-conducteurs et d’un « Fast Beam Blanker » pour la lithographie électronique .

ISIS – under ground

Aligneur de masques :

Le système est un aligneur de masques MJB3 de chez Süss Gmbh équipé d’une source UV400 Optics à 3 pics : 365nm, 405nm et 435nm.

ISIS – first floor

SEARCH @ ISIS